Gigaphoton將在SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023大會發(fā)布技術(shù)解決方案

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公司將在半導體光刻技術(shù)盛會上發(fā)表論文?

半導體光刻光源制造商Gigaphoton株式會社（總部：栃木縣小山市，董事總經(jīng)理兼首席執(zhí)行官：Katsumi Uranaka）將參加于太平洋標準時間2023年2月26日（星期日）至3月2日（星期四）在加州圣何塞舉行的SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023大會。?

Gigaphoton將介紹助力提高產(chǎn)能的前沿技術(shù)，以及基于DUV光源技術(shù)可持續(xù)性解決方案。此外，Gigaphoton還將介紹EUV光源的研發(fā)進展。?

* 如果您希望在您的材料中引用這些論文，請聯(lián)系我們。

關(guān)于GIGAPHOTON?

GIGAPHOTON公司成立于2000年，作為一家半導體光刻光源的供應(yīng)商，自成立以來一直為全球的半導體生產(chǎn)廠商提供有價值的解決方案。GIGAPHOTON時刻以客戶為中心，從產(chǎn)品研發(fā)到生產(chǎn)、銷售及維護，為用戶提供業(yè)界頂級水準的支持。如需了解更多信息，請訪問https://gigaphoton.com/

原文版本可在businesswire.com上查閱：https://www.businesswire.com/news/home/20230216005001/en/

關(guān)鍵詞： 解決方案 可持續(xù)性 產(chǎn)品研發(fā) 董事總經(jīng)理 首席執(zhí)行官